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  W 型架构产品满足半导体湿法清洗工艺生产需要 ,单位?槲 Robot 设计 ,可选配多种湿法清洗功效部件 ,满足半导体前道/高端封装/MEMS/LED 等差别清洗工艺生产的客户需求。
  . 适用于 6 英寸 ,8 英寸或 12 英寸产品
  . 基材:硅晶圆、玻璃等
  . 适用于 single wafer 湿法清洗工艺产品生产
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