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  • M 型架构产品满足半自动半导体超声喷涂光阻工艺生产需要,单位?榛杓,可选配多种喷胶功效部件,满足半导体高端封装/MEMS/光学模组/柔性基板/不规则基材等差别喷涂光阻工艺生产的客户需求
  M 型架构产品满足半自动半导体超声喷涂光阻工艺生产需要,单位?榛杓,可选配多种喷胶功效部件,满足半导体高端封装/MEMS/光学模组/柔性基板/不规则基材等差别喷涂光阻工艺生产的客户需求。
  . 适用于 6 英寸,8 英寸或 12 英寸晶圆≤500mm 方片等产品
  . 基材:硅晶圆、玻璃、陶瓷、柔性薄膜、金属等
  . 适用于胶膜厚度 0.8-20um 喷涂工艺产品生产
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  . 图形化的人机交互界面

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